Tuedd Datblygiad O Gorchudd PVD

Mae'r datblygiad presennol o dechnoleg gorchuddio PVD yn y byd yn cynnwys y pedair prif faes canlynol.

1. Bydd y cyfansoddiad cotio yn dueddol o fod yn arallgyfeirio ac yn gyfansawdd

Y genhedlaeth gyntaf o haenau PVD oedd TiN yn bennaf. Ar y sail hon, datblygwyd TiC, TiCN, ZrN, CrN, WC a haenau metel sengl eraill. Gyda datblygiad pellach o dechnoleg dyddodiad PVD, datblygwyd gorchuddion aloi aml-fetel alwminiwm, fel TiAIN a TiAICN, ar ôl y llall. Mae gwrthsefyll gwisgo a chaledwch coch y gorchuddion hyn yn llawer uwch na gorchuddion metel sengl, a gellir eu defnyddio ar gyfer cyflymder torri yn y sefyllfa fel hobbing (hyd at 150m / min). Yn ddiweddarach, roedd pobl yn ystyried y posibilrwydd o haenu gwahanol fathau o haenau ar yr offeryn i gynnig manteision gwahanol linynnau, megis TiN + TiCN + TiN, TiN + TiAlN, TiAIN + WC / C, ac ati.

Yn y blynyddoedd diwethaf, mae technoleg cotio PVD wedi cymryd cam arall ymlaen. Mae llawer o gwmnļau cotio wedi datblygu a thechnolegau cotio pwls cymwysedig, megis technoleg P3E (Allyriad Cyflyrau Electronig Pulse) gan Balzers, y Swistir. A thechnoleg HIP_ (Uchel Ion Pulse) o Cemecon, yr Almaen. Mae'r ddau dechnoleg newydd hyn yn defnyddio electronau pwls i weithredu'r targed anweddu arc. Gan y gall y broses weithredu mewn awyrgylch ocsigen, felly yn ddamcaniaethol, gall bron unrhyw unrhyw ocsid metel (ee, A12O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, ac ati) a'u hadiadau cyfansawdd gael eu hadneuo gan y broses hon.

2. Mae datblygu ceisiadau ar gyfer cotio yn fwy targed

Er mwyn cwrdd â gwahanol ofynion y cais, mae dyluniad a datblygiad gorchuddion yn cael eu targedu fwyfwy. Er mwyn cwrdd â nodweddion a gofynion gwahanol feysydd cais, megis datblygu drilio, melino, hobio sych, stampio, darlunio, ac ati, caiff cotiau â manteision cymharol yn hyn o beth eu datblygu. Ar ôl ymdrechion parhaus a threialon, llwyddwyd i gyflawni llwyddiannau mewn rhai meysydd, megis defnyddio cotiau TiX (Al: Ti-2: 1 alwminiwm uchel) ar melino, cotio heb fod yn Ti AICrN ar hobbio sych cyflym, y cyfansawdd cyfansawdd cotio CrN + TISIN ar drilio, cotio cyfansawdd TIN + TCX ar dynnu llun. Mae bywydau arwynebau ohonynt yn sylweddol well na gorchuddion eraill. Yn ogystal â hyn, mae amrywiadau cotiau wedi'u targedu ar gyfer ymwrthedd cyrydu (cotio Crx), "prosesu deunydd meddal (cotio MoS2), prosesu deunyddiau caled uchel (CBN, cotio Dimond), a phrosesu deunyddiau caled uchel (CBN, cotio Dimond) yn cael eu defnyddio'n eang. gyda datblygiad parhaus technolegau gorchuddio PVD, bydd bariau wedi'u targedu newydd yn parhau i gael eu datblygu i'w disodli.

3. Mae'r gronynnau a adneuwyd o'r gorchudd yn tueddu i fod yn nano-faint

Gyda datblygiad nanotechnoleg a datblygiadau technoleg cotio, mae cotio nano-offer hefyd wedi denu sylw nifer fawr o ymchwilwyr a chwmnïau gwasanaeth cotio PVD. Gall nanocrystallization y gronynnau a adneuwyd o'r cotio wella cryfder y bond rhwng y cotio a'r swbstrad, ar yr un pryd y gall leihau'r garw arwyneb y gorchudd. Ar hyn o bryd, mae'r rhan fwyaf o ronynnau adneuo'r cotio yn dal yn fawr. Er bod yna haenau nano-raddfa o'r enw, gellir dal hyd i ronynnau mwy ar eu hardal derfynol, ac mae'r wyneb cotio yn dal i fod yn garw. Bydd lleihau maint y gronynnau a adneuwyd o'r gorchudd a chynnal y broses sefydlogrwydd i osgoi'r gronynnau anarferol mawr yn dod yn gyfeiriad datblygu arall i'r cotio. Yn enwedig ar gyfer y cais ar wyneb drych, er bod rhai cwmnïau wedi datblygu cotio drych, mae'r ansawdd a'r sefydlogrwydd yn wael ac mae'r broses yn rhy gymhleth. Yn y dyfodol, bydd nanocrystallization y gronynnau cotio a nanometerization y trwch haen gorchudd yn brif gyfeiriad datblygu, sydd o arwyddocâd mawr i wella perfformiad cyffredinol y cotio a lleihau'r straen rhwng haenau, a bydd yn cynyddu llyfndeb yr wyneb drych ac yn ymestyn ymhellach y defnydd o haenau yn y diwydiant ffurfio manwl gywir.

4. Mae tymheredd y broses gorchuddio'n mynd yn is ac yn is

O'r tymheredd dyddodiad tua 1000 ° C ar gyfer haen cotio CVD cyffredinol i tua 500 ° C ar gyfer y cotiau PVD a PECVD, mae tymheredd dyddodiad y cotio wedi'i leihau. Felly, mae ystod y cais o'r haen gorchuddio hefyd wedi'i ehangu, ond mae'r tymheredd dyddodiad tua 500 ° C yn dal i gael effaith andwyol ar y gweithle, fel dadffurfiad a lleihau caledwch yr is-haen. Felly, mae gofynion arbennig yn cael eu galw am driniaeth cyn gwres y gweithle wedi'i orchuddio. Er enghraifft, efallai na fydd tymheredd tymer y gweithle yn is na'r tymheredd cotio. Bydd gorchuddion tymheredd is, fel tymereddau cotio islaw 200 ° C, yn dileu'r cyfyngiadau hyn, sy'n gwneud mwy o fathau o ddeunyddiau ar gael ar gyfer cotio, a dewis y driniaeth wres cynnar yn fwy hyblyg. Ar yr un pryd, bydd y defnydd o haenau tymheredd isel hefyd yn lleihau'r defnydd o ynni o offer cotio, ac mae ganddo effaith benodol ar amddiffyn yr amgylchedd mewn cadwraeth ynni. Yn ogystal, bydd lleihau'r tymheredd cotio yn lleihau'r amser gwresogi ac oeri ac yna'n lleihau cylch cyflwyno'r cotio. Felly, bydd y cotiau tymheredd isel yn hyrwyddo'r cais a phoblogi'r gorchudd a bydd yn dod yn gyfeiriad pwysig i ddatblygiad cotio PVD. Ar hyn o bryd, mae rhai cwmnïau cotio wedi datblygu cotio cryogenig (mae tymereddau cotio mor isel â 250 ° C). Fodd bynnag, oherwydd ansefydlogrwydd prosesau a chysylltiad gwael rhwng y cotio a'r is-haen, nid oes unrhyw geisiadau sylweddol wedi'u gwneud ac mae angen gwelliannau pellach arnynt.