Gorchudd Sputtering Gwactod

Gorchudd sputtering gwactod
Mae gronynnau gwefru gyda dwsinau o foltiau electron neu egni cinetig uwch yn peledu wyneb y deunydd, fel bod ei atomau'n cael digon o egni i dasgu allan i'r cyfnod nwy, gelwir y broses wasgaru gronynnau tasgu a chymhleth hon yn sputtering. Cotio sputtering gwactod yw'r defnydd o'r ffenomen sputtering i gynhyrchu amrywiaeth o ffilmiau.
Manteision: gallu rheoli trwch ffilm ac ailadroddadwyedd; Adlyniad cryf i'r swbstrad; Ffilm purdeb o ansawdd uchel; Gellir paratoi ffilmiau deunydd gwahanol i'r deunydd targed.
Anfanteision: mae cyflymder ffurfio ffilm yn is na gorchudd anweddiad; Tymheredd swbstrad uchel; Yn agored i nwy amhuredd; Mae strwythur y ddyfais yn gymhleth.
Ar hyn o bryd, y dechnoleg cotio sputtering a ddefnyddir amlaf yw technoleg cotio sputtering magnetron. Gall y dechneg hon gynyddu'r tebygolrwydd gwrthdrawiad â nwy, cynyddu cyfradd sputtering y targed, ac yn olaf cynyddu'r gyfradd dyddodiad. Felly, mae'n fwy addas ar gyfer ffilmiau swyddogaethol, meysydd addurniadol, a meysydd microelectroneg gydag amsugno, trosglwyddo, adlewyrchiad, plygiant a polareiddio.

Cwmni IKS PVD, peiriant cotio addurniadol, peiriant cotio offer, peiriant cotio DLC, peiriant cotio optegol, llinell cotio gwactod PVD, mae'r prosiect troi-allweddol ar gael. Cysylltwch â ni nawr, E-bost:iks.pvd@foxmail.com