Dyddodiad Sputtering

· Dyddodiad sputtering

Pan gaiff ei beledu â gronynnau ynni uchel ar yr wyneb solet, gall y gronynnau ar yr wyneb solet gael egni a dianc o'r wyneb, a'u hadneuo ar ffenomen sputtering y swbstrad dechreuodd gael ei ddefnyddio mewn technoleg platio ffilm ym 1870, ac fe'i defnyddiwyd yn raddol yn cynhyrchu diwydiannol ar ôl 1930 oherwydd cyfradd dyddodiad uwch, fel arfer y deunydd i'w adneuo i mewn i darged plât, wedi'i osod ar y catod Mae'r swbstrad yn cael ei osod ar yr anod yn union gyferbyn â'r wyneb targed, ychydig gentimetrau i ffwrdd o'r targed, mae'r system yn cael ei bwmpio i wactod uchel ac yna llenwi â 10 ~ 1 yf o nwy (argon fel arfer). Mae foltedd o sawl mil o folt yn cael ei gymhwyso rhwng y catod a'r anod, a chynhyrchir gollyngiad glow rhwng y polion Gollwng yr ïonau positif yn y maes trydan o dan weithred hedfan i'r catod, a gwrthdrawiad atomig yr arwyneb targed, y gwrthdrawiad o dianc o'r atom targed wyneb targed o'r enw atom sputtering, yr egni yn yr ystod 1 i ddwsinau o foltiau electron Sputtering atom yn y ffilm dyddodiad wyneb swbstrad gyda cotio anweddiad gwahanol, cotio sputtering heb gael ei gyfyngu gan y pwynt toddi o ddeunydd bilen, Ta sputtering Gellir defnyddio WC Mo WC TiC a sylwedd anhydrin arall ffilm cyfansawdd sputtering drwy ddull sputtering adweithiol, hynny yw, nwy adwaith (AR HS CH, ac ati) ychwanegu at Ar nwy, nwy adwaith a ei ïonau a targed atomau neu atomau sputtering adweithio i cynhyrchu cyfansoddion (megis ocsid nitrid, ac ati) a adneuwyd ar y swbstrad a adneuwyd ffilm inswleiddio gellir ei ddefnyddio gan amledd uchel sputtering dull Targed swbstrad yn sylfaen electrod, inswleiddio gosod ar yr electrod gyferbyn Pŵer amledd uchel wedi'i seilio ar un pen, pen trwy gydweddu cynhwysedd rhwydwaith a dc a dderbyniwyd wedi'i lenwi â bwrdd inswleiddio electrod inswleiddio wedi'i gysylltu â'r cyflenwad pŵer amledd uchel, plasma polaredd newidiol amledd uchel o electronau ac ïonau positif yn hanner cylch positif foltedd a hanner cylch negyddol yn y drefn honno i inswleiddio ar y targed Oherwydd bod y symudedd electron yn uwch na'r ïon positif, yr insiwleiddio wyneb targed â gwefr negyddol, mewn cydbwysedd deinamig, mae'r targed mewn potensial rhagfarn negyddol, fel bod y sputtering ïon positif ar y targed yn parhau i ddefnyddio magnetron sputtering gall wneud y gyfradd dyddodiad na'r mae sputtering di-magnetron yn cynyddu bron i drefn maint

Cwmni IKS PVD, peiriant cotio addurniadol, peiriant cotio offer, peiriant cotio DLC, peiriant cotio optegol, llinell cotio gwactod PVD, mae'r prosiect troi-allweddol ar gael. Cysylltwch â ni nawr, E-bost:iks.pvd@foxmail.com